Описание
Семейство продуктов Calibre Mask Process Correction, основанных на правилах и моделях, используется в передовом производстве фотомасок для коррекции систематических источников литографических и технологических ошибок маски с целью обеспечения соответствия подписи критических размеров маски спецификации.
Валидация коррекции масочного процесса для многолучевой масочной литографии
В данной статье мы представляем полный цикл калибровки и верификации MPC с использованием существующих, проверенных процессов изготовления масок в сочетании с новой системой MBMW.
Продукты для коррекции масочного процесса Калибр
Продукты Calibre Mask Process Correction, основанные на правилах и моделях, обеспечивают лучшую в своем классе масштабируемость и точность для коррекции источников ошибок от нанометрового до сантиметрового диапазона с учетом рассеяния электронов и эффектов загрузки процесса. Усовершенствованные средства моделирования позволяют выполнять калибровку модели с точностью до <1 нм.
