Description
Управление пучком в оптических системах
Может использоваться в парах для непрерывной регулировки угла наклона
Выбрав подходящий клин, можно легко создать точное отклонение луча без изменения других параметров луча. При использовании двух клиньев вместе с наклонной поверхностью в непосредственной близости можно получить непрерывное изменение отклонения луча путем вращения клиньев в обратном направлении.
Призмы для клиньев доступны в различных формах и размерах или с различными антибликовыми покрытиями.
