Description
Система PhableR 100 основана на запатентованной технологии фотолитографии PHABLE (сокращение от Photonics Enabler), разработанной компанией Eulitha AG, которая позволяет печатать периодические структуры высокого разрешения в системе бесконтактной фотолитографии. Разрешение, получаемое с помощью PhableR 100, практически такое же, как у системы проекционной литографии DUV, но без сложной и дорогой оптики и механики. Например, линейные решетки с полушагом 150 нм могут быть напечатаны с высокой однородностью с помощью новой системы. Дополнительное преимущество заключается в том, что практически неограниченная глубина фокуса изображения, формируемого системой PhableR 100, означает, что рисунки высокого разрешения могут быть напечатаны с высокой однородностью даже на неплоских подложках, которые часто встречаются в приложениях фотоники.
Система PhableR 100 может экспонировать подложки диаметром до 100 мм с помощью стандартных промышленных масок типа «хром на стекле» или масок с фазовым сдвигом. Маска и подложка загружаются в систему вручную, а процесс экспонирования контролируется бортовым компьютером. Можно использовать стандартные i-line фоторезисты, как положительного, так и отрицательного тона, которые доступны у обычных поставщиков. Линейные или криволинейные решетки, двумерные узоры типа фотонных кристаллов с гексагональной или квадратной симметрией могут быть напечатаны с периодами элементов менее 300 нм. Система также может использоваться как стандартная маска-выравниватель в режиме близости или контакта для печати структур микронного масштаба.
