Описание
Непревзойденная производительность и максимальная гибкость
FIB-SEM Hitachi Ethos — это FE-SEM последнего поколения с превосходной яркостью и стабильностью луча. Ethos обеспечивает получение изображений высокого разрешения при низком напряжении в сочетании с ионной оптикой для прецизионной обработки наноразмеров.
Высокопроизводительная колонка FE-SEM с режимом двойного объектива
— Наблюдение со сверхвысоким разрешением (режим HR: полулинза)
— Высокоточное определение конечных точек в режиме реального времени (режим FF: Field Free (режим разделения времени))
Высокопроизводительная обработка материалов
— Сверхбыстрая обработка с высокой плотностью ионного тока (Макс. ток пучка: 100 нА)
— Программируемый пользователем сценарий для автоматической обработки и наблюдения
Система микропробоотбора
— Полностью интегрированный контроль ориентации образца для обеспечения эффекта антизавихрения (технология ACE)
— Подготовка образцов для ТЭМ для получения однородных ламелей при любой ориентации
Возможность работы в трех лучах, обеспечивающая высокое качество результатов
— Обработка материалов ионным пучком ионов благородных газов с низким ускорением
— Инновационные функции уменьшают количество артефактов, связанных с ионами Ga, и других артефактов фрезерования
Большая многопортовая камера и стадия для различных применений
— Система, способная работать с образцами большого размера, с исключительной стабильностью этапа
— Полный диапазон улучшенного отслеживания на большом расстоянии (155 x 155 мм)
Усовершенствованная электронная оптика и многосигнальная детекция
Колонна Ethos SEM состоит из системы составных объективов с магнитным и электростатическим полем, сконфигурированных как два режима объектива. Режим высокого разрешения (HR) обеспечивает наблюдение образца с предельным разрешением за счет погружения образца в магнитное поле системы линз. Режим Field Free (FF) обеспечивает обработку FIB в режиме реального времени для высокоточного фрезерования конечных точек.
