Description
Источник излучения холодного поля идеально подходит для получения изображений высокого разрешения при малом размере источника и разбросе энергии. Инновационная технология CFE Gun обеспечивает максимальную яркость и стабильность пучка, позволяя получать изображения высокого разрешения и проводить высококачественный элементный анализ.
Для обеспечения стабильного сбора данных при максимальной производительности прибора SU9000II предлагает новые возможности автоматической настройки оптической системы и новый программный пакет EM Flow Creator в качестве опции для автоматизированного сбора данных, в частности, последовательного сбора данных.
Кроме того, уникальная конструкция оптической системы позволяет использовать EELS для расширенного анализа материалов.
SU9000 — новый премиальный РЭМ компании HITACHI. Он обладает уникальной электронной оптикой, в которой образец располагается в зазоре между верхней и нижней частями полюса объектива. Эта так называемая концепция «true in-lens» в сочетании с новым поколением технологии эмиссии холодного поля HITACHI гарантирует высочайшее разрешение системы (разрешение SE 0,4 нм при 30 кВ, 1,2 нм при 1 кВ без использования технологии замедления пучка [0,8 нм с замедлением пучка]) и стабильность.
Для обеспечения практической применимости этой разрешающей способности в лаборатории в SU9000 используется сверхстабильный штатив с боковым входом образца, аналогичный высококлассным системам ТЭМ, оптимизированное гашение вибраций и закрытый корпус для защиты электронной оптики от внешних шумов.
