Описание
Требования к качеству и эффективности, предъявляемые к массовому производству небольших пластиковых или стеклянных линз, оптических окон постоянно растут. Использование технологии измерения волнового фронта в массовом производстве может дать большой потенциал для оптимизации.
Пластины WaveMaster® PRO 2 & PRO 2 устанавливают новые стандарты в серии испытаний оптики и оптических пластин. При типичном времени измерения 2 секунды на каждую оптику и быстрой смене лотка или пластинки создаются предпосылки для использования в массовом производстве. Что касается измерительной техники, WaveMaster® PRO 2 & PRO 2 Wafer с помощью датчика Shack-Hartmann определяет волновой фронт, на основе которого определяются различные параметры. Затем выполняется сравнение с проектными данными для каждого объектива. Очень хороший пул данных для дополнительной оптимизации производства.
Основные характеристики
Продолжительность измерения: менее 2 секунд на объектив
Полностью автоматическое измерение большого количества образцов (подложек или предварительно загруженных лотков)
Критерии PASS и FAIL по выбору пользователя
Измерение абсолютного или относительного волнового фронта
Полный анализ волнового фронта (PV, RMS, Zernike, PSF, MTF, Strehl)
Доступно в двух вариантах конфигурации
Установка для измерения сферических и асферических линз (одиночных или пластинчатых)
Установка для измерения плоских поверхностей (одиночная поверхность или пластина)
Экспорт всех результатов измерений для каждой отдельной линзы
Вариант: Интегрированная измерительная система для измерения ориентации полупроводниковых пластин, общего угла наклона и угла наклона полупроводниковых пластин
