Description
Система периодического действия V10-G предназначена для удаления фоторезиста. Кроме того, она может быть оптимально использована для очистки пластин.
Области применения
Идеальная система для удаления слоев фоторезиста (также SU-8) после процессов сушки, таких как RIE или ионно-лучевое травление, а также после процессов имплантации с высокой дозой облучения
Очистка кремниевых пластин или других подложек перед мокрой обработкой для достижения лучшей смачиваемости для получения равномерного и эффективного результата
Применимо для процессов в МЭМС и нанотехнологиях
Удаление полимеров, например, после процессов Bosch
Удаление органических жертвенных слоев
Кондиционирование биологически активных соединений
Паспорт
Тип системы — настольная установка
Размеры камеры (Ø x D) — 215 x 260 мм
Мощность микроволн — 50-600 Вт
Газовые входы с контроллером массового расхода — 1 канал
Электропитание — 230 В, 50/60 Гц
Потребляемая мощность (без насоса) — 1,5 кВА
Вакуумметр — Pirani
Размеры системы (Ш x Г x В) — 720 x 820 x 820 мм
Опции значка
Опции
Вакуумный насос — ДА
Озоновая ловушка — ДА
Дополнительные входы для газа — до 2
Мягкий старт и медленное удаление воздуха — ДА
Клетка Фарадея — ДА
Клапан управления давлением процесса —
Характеристики системы
Технологическая камера: кварцевое стекло
Выдвижная дверь
Управление ПЛК: SPS (S7-300)
Резистивная сенсорная панель с операционной системой Windows (также можно работать в перчатках)
Удаленное обслуживание (VPN)
Ethernet-интерфейс
