Описание
Платформа ULTRA R5000 обеспечивает лазерную обработку широкого спектра материалов. Она разработана и идеально подходит для обработки материалов в условиях производства, исследований и разработок, академических исследований и создания прототипов. Благодаря уникальной модульной архитектуре, настраиваемые решения могут быть легко переконфигурированы с широким набором опций для повышения производительности, возможностей и безопасности, чтобы завершить идеальное решение для удовлетворения текущих и будущих потребностей бизнеса.
Платформа ULTRA R5000 имеет площадь обработки материалов 32 x 24 дюйма (813 x 610 мм), с поддержкой материалов толщиной до 12 дюймов (305 мм).
Настраиваемая платформа ULTRA R5000 может быть оснащена до двух лазерных источников, состоящих из двух взаимозаменяемых CO2-лазеров или одного CO2-лазера и одного волоконного лазера. При конфигурации платформы с двумя лазерами пользователи могут воспользоваться преимуществами технологии MultiWave Hybrid™, позволяющей одновременно объединять до двух из трех длин волн — 9,3 мкм, 10,6 мкм и 1,06 мкм — в один коаксиальный луч. Каждый спектральный компонент пучка контролируется независимо и может модулироваться в режиме реального времени.
Основные характеристики и опции включают поддержку нескольких лазеров, быстрое позиционирование лазерного луча, прецизионную автофокусировку, независимую от материала, контролируемую плотность мощности лазера, интерфейс автоматизации, многокамерное видение и регистрацию, обнаружение превышения температуры и поддержку пожаротушения.
