Description
Источник плазмы встроен в вакуумную камеру и генерирует плазму высокой плотности. Источник плазмы можно использовать для плазменного осаждения (ионного покрытия), и можно улучшить свойства пленки для оптических тонких пленок, защитных пленок и функциональных пленок. А также может использоваться для плазменной обработки, такой как очистка и модификация поверхности.r
r
Особенностиr
r
Низковольтная и сильноточная плазма позволяет ионизировать и возбуждать молекулы газа и испаряемые частицы.r
Возможно реактивное осаждение, особенно подходящее для ускорения окисления пленки. r
Плазма высокой плотности может генерироваться в массовом пространстве, поэтому возможно высокоскоростное осаждение на большую площадь.r
Возможна модернизация существующей вакуумной камеры.r
r
эффектr
r
Улучшение плотности пленки, показателя преломленияr
Производство экологически устойчивых пленокr
Низковолновой сдвигr
Низкое оптическое поглощение (способствует окислению пленки) r
Улучшение адгезии пленкиr
Улучшение шероховатости поверхностиr
Контроль стресса пленкиr
r
Характеристикиr
r
Максимальная мощность плазмы: 6 кВт (160 В, 38 А)r
Рабочее давление: 1×10-2 до 1 × 10-1Па (Ар, О2, N2 атмосфера)r
Газ на выходе (Ar): от 8 до 20 мл/мин.r
Охлаждающая вода: от 7 до 10 л/мин.r
Метод луча: выбирается из луча отражения и луча облучения.
