Описание
Широкополосные системы плазменного контроля дефектов 2965 и 2950 EP — это достижения в области оптического контроля дефектов, позволяющие обнаруживать критические для выхода продукции дефекты на ≤5-нм логических элементах и передовых узлах проектирования памяти. Благодаря использованию усовершенствованных технологий широкополосной плазменной подсветки, таких как режим Super-Pixel™, и передовых алгоритмов обнаружения, инспекторы 2965 и 2950 EP обеспечивают чувствительность, необходимую для обнаружения критических дефектов в различных технологических слоях, типах материалов и технологических стеках. Благодаря диапазону длин волн, позволяющему фиксировать критические дефекты нанолиста, прибор 2965 позволяет производителям микросхем наращивать темпы производства и выпускать передовые микросхемы с архитектурой транзисторов по всему периметру затвора. Модель 2950 EP включает в себя несколько инноваций в области аппаратного обеспечения, алгоритмов и бинирования дефектов, которые поддерживают обнаружение и мониторинг дефектов в устройствах 3D NAND и DRAM. Являясь отраслевым стандартом для поточного мониторинга, 2965 и 2950 EP сочетают чувствительность со скоростью оптического контроля дефектов на пластинах, что позволяет осуществлять Discovery at the Speed of Light™ — сочетание быстрого обнаружения дефектов и полной характеристики проблем с дефектами при оптимальной стоимости владения.
— Перестраиваемый источник широкополосного освещения DUV, UV, видимого диапазона с новым спектральным фильтром
— Выбираемые оптические апертуры
— Малошумящий датчик
— Режим инспекционного тестирования Super-Pixel™ для высокой пропускной способности при высокой чувствительности
— Передовые алгоритмы обнаружения дефектов, включая MCAT
— iDO™ 3.0 с передовыми методами машинного обучения для бинирования дефектов и подавления помех
— Новые алгоритмы для захвата критических дефектов, представляющих интерес, на краях ячеек памяти и для бинирования дефектов на критических этапах процесса памяти
